Nanopatterning. Für präzise Strukturen vom Submikrometer- bis in den Nanometerbereich.
IMS CHIPS entwickelt und fertigt komplexe Nanostrukturen im Mikrometer- und Nanometerbereich – exakt abgestimmt auf Ihre Anwendung in Optik, Elektronik oder Life Sciences. Auf Quarz-, Silizium-, SOI-Wafern sowie Masken-Substraten realisieren wir binäre, Multi-Level-, Mesa- und 3D-Analog-Strukturen mit modernster Lithografie und Ätztechnik. Von der Idee über Prozessentwicklung und Qualifizierung bis zur zertifizierten Kleinserie erhalten Sie alles aus einer Hand.
Für den Weg vom Konzept zur Serienfertigung.
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"Jedes Nanostrukturierungsprojekt beginnt mit einem fundierten Erstgespräch. Gemeinsam definieren wir die Anforderungen an Strukturgröße, Auflösung, Material, Substrat und Fertigungstechnologie. Auf dieser Basis entwickeln wir die passende Prozesskette, prüfen die Machbarkeit und begleiten Ihr Vorhaben von ersten Mustern über Prototypen bis hin zur Serienfertigung. Kommen Sie einfach auf mich zu – ich unterstütze Sie gerne bei Ihrem Projekt."
Nanoimprint-Master. Für reproduzierbare Nanostrukturen.
Wir fertigen Replikationsmaster für Nano-Imprint-Prozesse auf Silizium-, und Quarz- Wafern, Maskenblanks oder SOI-Wafern. Für den Strukturübertrag nutzen wir RIE- und ICP-Verfahren sowie Bosch- und Kryo-Ätzen. Auf Wunsch folgen professionelle Reinigung, Glättung und Antihaft-Beschichtung – Formate reichen von mm² bis 230 × 230 mm².
Optische Nanostrukturen. Für die präzise Formung und Steuerung von Licht.
Für optische Anwendungen strukturieren wir Quarzglas auch im Sub-µm-Bereich präzise. Als Basis dienen 150-mm oder 200-mm-Quarzwafer sowie Maskensubstrate in 6'' (6025) und 9'' (9035); für Spezialanwendungen sind auch 12''- und 17''-Substrate möglich. Typische Anwendungen sind Fresnel-Linsen, Mikrolinsen-Arrays und diffraktive optische Elemente.
Masken- & Resisttechnologie. Für maximale Auflösung und Prozesseffizienz.
Chip-Services. Für Forschung und Entwicklung.
Seit über 15 Jahren betreiben wir eine eigene Maskenlinie für binäre und phasenschiebende Masken (Formate 6025/9035). Parallel evaluieren und entwickeln wir E-Beam-Resists für hochaufgelöste Strukturen bei akzeptablem Durchsatz – inklusive Kombinationen mit leitfähigen Schichten zur Reduktion von Aufladungseffekten.
Referenzprojekte aus der Nanostrukturierung.
Technologien, die den Unterschied machen.
Jedes Projekt stellt individuelle Anforderungen an Präzision, Material und Fertigungsprozess. Unsere Referenzen zeigen, wie wir gemeinsam mit unseren Partnern maßgeschneiderte Nanostrukturierungslösungen entwickeln und erfolgreich in Forschung und industrielle Anwendungen überführen.
